微波等離子體化學氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前國際上被用於高品質金剛石膜製備的首選方法。

MPCVD 裝置是將微波發生器產生的微波經波導傳輸係統進入反應器，並通入甲烷與氫氣的混合氣體，在微波的激發下，在反應室內產生輝光放電，使反應氣體的分子離化，產生等離子體，在基板台上沉積得到金剛石膜。

通常在使用 MPCVD 設備進行金剛石合成的過程中，如果設備有泄漏的情況，將會使合成的金剛石中摻有雜質，影響金剛石的品質，一般漏率要求1E-10 Pa m3/s(1E-9 mbar l/s)。需要快速的對設備進行定量定位的泄漏檢測，傳統檢漏方式無法滿足。

為了解決這一問題，安徽大香蕉视频网科技推薦客戶采購A100香蕉视频APP下载链接，利用真空法對MPCVD進行檢漏，漏率設置為1E-10 Pa m3/s( 1E-9 mbar l/s)。其操作步驟如下：

1.將設備通過波紋軟管連接檢漏儀A100，確認連接完畢；

2. 啟動 A100，進入待機界麵，啟動時間≤ 2min；

2.按下開始鍵，先通過閥門啟動真空泵D16C抽真空，到達一定壓力檢漏儀開始工作，同時在設備懷疑有漏的地方噴氦氣 (腔體，焊縫，連接處)。若有漏，檢漏儀報警，並且顯示實時漏率；

4. 檢測完畢，按下檢漏儀停止鍵，移除連接管路。

香蕉视频APP下载链接A100與傳統泡沫檢漏和壓差檢漏對比，在提供無損檢漏的同時可以檢測出更小的漏率5E-13 Pa m3/s，利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位，定量漏點。

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